Syskey  离子束刻蚀机 IBE

离子束蚀刻（IBE）是一种先进的蚀刻技术，利用离子源去除来自基材表面的材料具有卓越的均匀性和精度。国际教育局可以
适用于金属、氧化物、半导体、有机物等多种材料化合物。这种蚀刻方法涉及使用带电粒子的高能束，通常是氩离子，用于物理去除样品表面的材料。

配置和优势：

• 可实现高蚀刻速率和低速率控制
• 使用均匀的平行光束进行高度均匀的加工
• 灵活配置，适用于高级研究应用
• 灵活的晶圆处理能力 – 开放负载、单晶圆负载锁定或盒式盒式磁带机器人搬运机
• 产生受控各向异性蚀刻
• 由于蚀刻梁的角度可变，可以控制角度轮廓相对于样品表面
• 负载锁定。（可选）
• 终点检测系统。（可选）