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半导体微纳检测仪器 > IAS日 杂质分析化学品检测分析系统
 
气体电离探测器 GED
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气体电离探测器(GED)是一种用于测量气体中金属颗粒浓度的技术,尤其适用于半导体行业中特殊气体的分析。该系统通过一个高效的膜来交换气体,使得样品气体中的金属颗粒能在无需预处理的情况下直接引入到电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)中进行高灵敏度分析。GED的工作原理基于道尔顿定律和格雷厄姆定律,其气体交换效率超过99.99%。这种技术不仅适用于环境空气中的金属颗粒检测,也成功应用于半导体气体如NH3中的杂质分析,表现出优异的灵敏度和准确性。

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产品详情

气体电离探测器(GED)能够测量气体中金属颗粒的 ppq 水平。

 

该系统最初是为利用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)分析环境空气中的金属颗粒而开发的。现在它已扩展到半导体行业使用的特殊气体。

ICP-MS 是测定各种样品中金属元素最灵敏的分析技术之一。由于水样基本上是通过雾化器和喷淋室引入氩等离子体的,气体分析需要耗时的样品前处理,如过滤和鼓泡。此外,测定半导体气体中 ppt 或亚 ppt 水平的杂质极其困难。

如果气体能够直接引入氩等离子体,金属颗粒无需预处理即可进行分析,且灵敏度高得多。然而,电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)在将其他气体引入等离子体方面存在局限性,因为很难维持等离子体。

气体交换装置GED使用一种特殊的膜,能够与氩气交换其他气体。气体交换效率超过 99.99%。当样品气体中含有颗粒物时,样品气体被氩气交换,颗粒物在 GED 出口随氩气气流流出,可直接引入电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)的氩等离子体中进行分析。

因此,金属杂质的单个 ppq 级别可以直接进行分析。

气体扩散增强GED的原理基于道尔顿定律和格雷厄姆定律。如上所示,将样品气体引入膜管内侧,将氩气引入膜管外侧。由于膜管内样品气体的分压高于外侧,样品气体向膜管外侧扩散。另一方面,膜管外侧氩气的分压高于内侧,氩气向膜管内侧扩散。氩气扫气流量远高于样品气体流量,样品气体完全被氩气取代(>99.99%),而颗粒不会穿过膜管,而是留在膜管内。因此,颗粒在氩气流中从 GED 中出来,被引入到 ICP-MS 的氩气等离子体中进行分析。

主要应用:

u环境

在正常环境空气中,铅的含量为 30 - 60 纳克/立方米,铀的含量为 0.1 - 0.3 纳克/立方米。如图 2 所示,在每个点 10 毫秒的积分时间内检测到许多 208Pb 粒子。

如图 3 所示,还检测到了环境空气中的 235U 和 238U,积分时间分别为 10 毫秒和 10 秒。较短的积分时间可以检测单个粒子,较长的积分时间可以累积粒子,从而进行准确的定量分析。

235U 和 238U 的自然丰度分别为 0.72%和 99.27%,并且积分时间较长的结果显示出良好的同位素比值一致性。

图 4 展示了 56Fe 粒子的结果

清洁内部的分析房间。外部清洁房间展示大量的 56Fe 粒子

半导体

对半导体工业中使用的 NH3 气体进行了分析。图5展示了使用和不使用滤波器的1毫秒积分时间的瞬态信号。从左侧可以看出,没有滤波器时,检测到许多粒子,如铜、锌和铅。检测到的铜浓度约为0.03ppm(重量)。

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