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半导体微纳检测仪器 > IAS日 杂质分析化学品检测分析系统
 
连续化学品样品检测实验室 CSI_Lab
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化学分析实验室采用连续化学采样检测系统(CSI)监测半导体工艺中的化学品,以检测微量金属杂质。该系统使用电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)进行24/7的连续监测,确保化学品在运输和更换过滤器过程中不受污染。在线接口软件(OIS)控制阀门、自动进样器和ICP-MS,实现自动校准和质量控制。该系统能够生成浓度和计数趋势图,并具备自动重新分析功能。

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连续化学品样品检测实验室 CSI_Lab 

化学分析实验室在实验室中监测半导体工艺中的化学物质

连续化学采样检测CSI是一个用于监测半导体行业中使用的化学品中微量金属杂质的系统。

 

在半导体器件制造中,许多不同类型的化学物质被用于不同的目的,而化学物质中的金属杂质会导致器件故障。

由于单片晶圆加工越来越普及,清洗和蚀刻过程中的交叉污染风险越来越小。相反,散装化学品的污染会造成巨大的生产损失。散装化学品的污染可能发生在将化学品从卡车或罐转移到储罐的过程中,或者在更换过滤器之后。

 

为避免化学品中的任何污染风险,化学源检测公司CSI已使用一台电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)对不同储罐中的金属杂质进行 24/7 的连续监测。当有卡车到来时,会立即对卡车上的样本进行分析,紧接着对当前样本进行分析。

在线接口软件(OIS- OIS 是一款智能软件,用于控制每个阀、自动进样器和电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)。ICP-MS 用作检测器,包括校准曲线在内的所有信息均由 OIS 管理。

OIS 具有以下功能

通过简化的标准加入法进行自动校准和重新校准。

- 检查校准曲线的相关系数、最小灵敏度、标准偏差(SD)和相对标准偏差(RSD),以及如果结果超出限值时的自动重新分析功能。

定期检查质量控制标准(QC)。

- 两个浓度上限,以及警报和输出信号的产生。

在当前样本之后插入卡车或罐式样本。

- 针对每种化学物质更改电感耦合等离子体质谱法(取决于电感耦合等离子体质谱仪型号)。

每个样本的浓度和计数的趋势图。

- 离线样本分析

- 与远程接口的通信(可选)

以下是通过 LT 模型分析的各种化学品的标准添加校准曲线。所有化学品均依次进行分析。

 

 

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