中文
|
EN
产品分类
联系我们
地址：深圳市宝安区福海街道展城社区展景路83号会展湾中港广场6栋B座902
电话：0755-29698758, 81776600,81779891
廖总：13538131258,15323788857 QQ:583129932
网站：www.lxyee.net
邮箱：johny.liao@lxyee.net
离子刻蚀与沉积设备 > Sentech德 等离子刻蚀与沉积机
 
SI ADL LL/ SI PEALD LL 原子层沉积设备
*姓名：
*手机/微信：
*单位：
*邮箱：
*内容：
*验证码：

德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL,在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度, 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积, 400/500°C 基板温度, 最大 8 英寸晶圆.

咨询购买
产品详情

德国Sentech 原子层沉积设备 SI ADL LL/ SI PEALD LL

 

主要特点
· 在 8 英寸晶圆和玻璃基板上实现高度均匀的薄膜厚度
· 高度均匀的多层堆叠的长期稳定沉积
· 真正的远程 CCP 等离子体源
· ALD 实时监控器
 
应用特点
· 在具有高纵横比的模型上进行 3D保形沉积
· OLED 的钝化
· 电子设备的钝化
 
技术特点
· 400/500°C 基板温度
· 300 W，13.56 MHz，CCP 等离子体源
· 4 个带截止阀的前驱体入口
· 直接绘制和起泡线
· 高达 200°C 的壁式加热
· 衬垫
· 560 m3/h 干泵
· 带开盖的装载锁
· 快速节流阀
· 最大 8 英寸晶圆
· 多达 7 条燃气管线
· TP、CCP阀、臭氧管路、手套箱，实时监控可选
 
[RETURN]
上一个：SI ALD / SI PEALD 原子层沉积设备
下一个：多腔体沉积镀膜刻蚀设备

Copyright © 2019 深圳市蓝星宇电子科技有限公司 All Rights Reserved  粤ICP备12009628号    |    友情链接(旧版网站）

关于我们     联系我们     首页