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离子刻蚀与沉积设备 > Sentech德 等离子刻蚀与沉积机
 
SI 500 RIE 等离子刻蚀机
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德国Sentech 等离子刻蚀机 SI 500 RIE，RIE 蚀刻机，最大 8 英寸晶圆, 带可选的 ICP 源扩展

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德国Sentech 等离子刻蚀机 SI 500 RIE

 

 

SI 500 RIE

带 He 背面冷却的衬底电极

基板的背面冷却保证了 +/-1K的温度稳定性和/或将样品的温度保持在低值。

SI 500 CCP

RIE 蚀刻机，带可选的 ICP 源扩展

技术和特点：

SI  500  RIE

·600 瓦，13.56 MHz
·360 升/秒涡轮分子泵
·旋转前级泵
·磁电机气动负载锁
·12/16 根燃气管线
·带机械晶圆夹紧的电极
·最大 8 英寸晶圆
·OES、SLI 可选
 

SI 500 CCP

1360 l/s 涡轮分子泵

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