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离子刻蚀与沉积设备 > Sentech德 等离子刻蚀与沉积机
 
Etchlab 380 反应离子刻蚀机
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德国Sentech  反应离子刻蚀机 Etchlab 380，最大 300 mm 晶圆，用于多个晶圆的 380 mm 载体

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产品详情

德国Sentech反应离子刻蚀机 Etchlab 380

 

 

主要特点

·打开盖子

·300 mm 晶圆

·380 毫米托架

·多片加工

 

应用特点

·硅及相关材料的蚀刻

·金属溅射

·亚微米蚀刻

 

技术特点

·600 瓦/1100 瓦，13.56 MHz

·360 升/秒涡轮分子泵

·旋转前级泵

·打开盖子

·多达 12 条燃气管线

·最大 300 mm 晶圆

·用于多个晶圆的 380 mm 载体

·设计紧凑，占地面积小

 
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