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光刻机/微纳加工 > 中科光电紫外光刻机
 
URE-2000/30D 多波段定制型紫外光刻机
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URE-2000/30D多波段定制型紫外光刻机，具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光，以及接近式曝光四种功能

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产品详情

URE-2000/30D多波段定制型紫外光刻机

1．技术参数
。 曝光面积：4 英寸
。 曝光波长 1：365nm 或 405nm（可切换，更换滤光片），
。 曝光波长 2：248nm
。 曝光位置 1 和曝光位置 2 自动切换
。 分辨力：0.8-1μm
。 掩模尺寸：2.5 英寸、3 英寸、4 英寸、5 英寸（标准配置，其他尺寸可定做）
。 样片尺寸：直径 ±10mm-- ±100mm 或者 15mm*15mm-100mm*100mm(标准配置，其他尺寸可定
做），可适应厚度为 0.1mm--5mm(最大可扩展为 15mm)
。 曝光方式：定时（倒计时方式）
。 具备真空接触曝光、硬接触曝光、压力接触曝光，以及接近式曝光四种功能
。 照明不均匀性：3%（Φ100mm 范围）
。 调平接触压力通过传感器保证重复
。 数字设定对准间隙和曝光间隙
。 掩模相对于样片运动行程：
X: 优于±5mm; Y: 优于±5mm; θ:优于±6º
。 最大焦厚：400μm（SU8 胶，用户提供检测条件）
。 光源平行性：＜3º
。 曝光能量密度 1：＞20mW/cm²（365 或 405nm），照明面温度<35º
。 曝光能量密度 2：＞3mw/cm²（248nm）
。 单层曝光一键完成
。 采用球气浮自动找平
。 汞灯功率：350W（直流，进口汞灯）
 
2．外形尺寸：约 1400mm（长）*900mm(宽) *1800mm（高）
3．配置
设备主要由均匀照明曝光系统、工件台系统、电控系统、气动控制系统及辅助配套设备构成。
 
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