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镀膜沉积系统 > Quorum英 镀金镀碳一体机
 
Q150T PLUS 镀金镀碳一体机
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英国Quorum Q150T PLUS 镀金镀碳一体机，高分辨成像镀金镀碳一体机

是一款优化设计的带涡轮分子泵抽真空的镀膜设备，真空度可达5x10-5mbar。可以溅射具有超细成膜颗粒的易氧化金属，适用于高分辨率成像。同样地，低散射可得到均匀而致密的无定形碳膜。

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英国Quorum  Q150T PLUS 高分辨成像镀金镀碳一体机

Q150T Plus是一款优化设计的带涡轮分子泵抽真空的镀膜设备，真空度可达5x10-5mbar。可以溅射具有超细成膜颗粒的易氧化金属，适用于高分辨率成像。同样地，低散射可得到均匀而致密的无定形碳膜。
 
溅射贵金属和易氧化金属推荐放大倍数：
。 Au、Au/Pd可达5万倍
。Pt可达10万倍
。Cr、Ir可达10万倍以上
 
非常适合薄膜应用，例如镀ITO、W、Al、Zn等
 
Q150T E和ES PLUS使用碳棒头作为标准配置
 

Q150T Plus具有三种型号

 
 

技术规格

 
推荐应用
。 扫描电镜高分辨率放大应用
。FIB中镀保护性铂层
。腐蚀、摩擦和磨损保护层的研发
。医疗设备上的保护层
。 BSE成像
。EDX, WDS, EBSD分析
。 蒸镀碳覆型膜
 
 
Q150T Plus 功能特点
全新升级的用户界面：
。 电容式触摸屏，灵敏度高，更易触控使用
。用户界面软件全面更新，使用现代智能技术界面
。全面的文字帮助页面
。 USB接口可轻松进行软件更新和数据备份
。log文件格式为.csv，内含日期、时间和工作参数，导出后可在Excel或类似软件中分析
。16GB的闪存可储存超过1000条镀膜方案
。 双核ARM处理器，可实现快速响应的显示
 
允许多用户输入和储存镀膜方案，并根据最近的使用来排列每个用户的方案。
智能逻辑系统自动识别插入头，并显示相应的操作设置和控制。系统提示用户确认靶材，然后自动为该材料选择合适参数。
 
直观方便的软件，即使新手也能快速输入和存储其处理参数，创建自己的镀膜程序，且系统已存储典型的溅射和镀碳程序可供直接调用。如果软件检测到在一段时间内无法达到设定真空度，系统会终止程序，以防真空泵过热。
 
 
 
Q150T Plus是Quorum Technologies出品的国际认可的Q系列镀膜仪的一部分，全球数千家客户使用此类镀膜仪。Q系列旨在为SEM、TEM和薄膜应用提供高质量的镀膜解决方案，Q系列功能多样、价格合理且易于使用。这些产品专供科研用途。
 
 
可控斜坡碳棒蒸发
无论是否选用FTM，精细蒸发可准确控制碳膜厚度。通过消除一般镀膜仪普遍存在的“火花”，提高了所镀碳膜质量。对于可复制的高质量碳膜，建议
使用塑形碳棒，其纯度高，不易产生碎屑，更易控制。脉冲和斜坡碳棒蒸发已作为标准镀碳程序。
 
磁控冷溅射
溅射镀膜技术用途很广。虽然采用高电压、低真空且无自动化也可溅射镀膜，但这些落后技术会使样品过热，等离子体与样品强烈作用会损坏样品，并不适合电镜应用。Q150T  Plus采用低温增强型等离子磁控技术，并优化了涡轮分子泵压强，整合了低电流和沉积控制，以确保样品得到保护和成膜均匀。
 
Q150T S Plus和Q150T ES  Plus换靶便捷，可溅射易氧化金属和贵金属，标配铬(Cr)靶。可选：Au、Au/Pd、Pt/Pd、Pd、Pt、Cu、Ir、W、ITO等。
脉冲清洁用于溅射Al铝会迅速形成氧化层，难以去除，但Q150T ES＆S Plus具有特殊的铝靶程序，可减少去除时间并防止靶材过度预溅射。

 

 

Q150T Plus性能对比
 
 
Q150T Plus功能特点
 
 
Examples of stages, shown with optional FTM
 
 
 
 
 
 
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