EVG720紫外纳米压印机

一、设备原理：

EVG720紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG720自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。

二、应用范围

纳米压印技术主要应用于如下方面：

LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。

三、主要特点及技术参数：

1、主要特点：

。 最大产量高达40wafers每小时；

。 紫外光曝光；

。配备专用的紫外纳米压印工具；

。 正面对准或者正反双面对准；

。 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；

。 硬紫外纳米压印，软紫外纳米压印、微接触压印。

2、技术参数

• 晶圆尺寸：最大150mm
• 大面积压印：最大150mm
• 产能：最大可到40wafers/小时
• 印章制备：支持工作模具制备，支持自动楔形脱模
• 曝光：曝光光源：高功率窄带曝光；波长：300-500nm, 光强：~ 400 mW/cm2，光强均匀性：20%（6寸）
• 对准模块：机械对位精度±200um，光学对位精度±3um
• 压印微结构尺寸范围：40nm-2um；
• 压印结构分辨率：≤40纳米
• 压印残留层厚度：≤20纳米
• 滚压印速度：2mm/s-16mm/s, 可以调节
• 图形保型度：≥90%
• 支持倾斜光栅压印，倾斜度45-90°
• 上料系统：3料盒台，现场可升级

u SECS/GEM II: 可选。

公司简介：

EVG公司成立于1980年，公司总部和制造厂位于奥地利，在美国、日本和台湾设有分公司，并在其他各地设有销售代理及售后服务部，产品和服务遍及世界各地。

EVG公司是一家致力于半导体制造设备的全球供应商，其丰富的产品系列包括：涂胶和喷胶/显影机/热板/冷板、掩模版光刻/键合对准系统、基片热压键合/低温等离子键合系统、基片清洗机、基片检测系统、SOI 基片键合系统、基片临时键合/分离系统、纳米压印系统。

目前已有数千台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统/微流体器件，SOI基片制造，3D封装，纳米压印，化合物半导体器件和功率器件等领域。

EVG是世界上为数不多的可以商业化纳米压印设备的著名公司，可为客户提供完整的纳米压印方案，包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其专利的极其优异的对准技术和世界领先的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。