奥地利EVG紫外纳米压印EVG620

一、设备原理：

EVG620紫外纳米压印用于从印章到衬底的紫外图形转移。EVG620自动纳米压印系统允许衬底和印章的尺寸从很小的芯片到150mm直径的圆片范围。用于纳米技术应用的配置包括印章机械释放、程序控制高或低的接触压力。EVG独有的吸盘设计支持软印章和硬印章压印，可以保证大面积纳米压印的均匀压力，从而保证获得很高的良率。

二、应用范围

纳米压印技术主要应用于如下方面：

LEDS 制作，LED PSS纳米压印工艺，LED纳米透镜阵列；微流体学；芯片实验室；抗反射层； 纳米压印光栅； 莲花效应；光子带隙；光学及通讯：光晶体，激光器件；生物技术解决方案：医药分析，血液分析，细胞生长。

三、主要特点及技术参数：

1、主要特点：

。 适用于紫外纳米压印和微接触印刷；

。 紫外光曝光；

。 配备专用的紫外纳米压印工具；

。 适于软或硬印章压印；

。 适用衬底：Si，玻璃，化合物半导体；

2、技术参数

• 衬底尺寸：

10 mm x 10 mm，2"，3"，100mm，150mm；厚度：0.1 - 10mm

• 印章参数：

25 mm x 25 mm，最大 150 mm；厚度： <7mm

• 系统配置：

标准桌面系统，可选系统导轨，被动式振动隔离

• 对准精度：

上部对准：± 1.0µm 3σ；通过使用专用的摩尔纹对准键，可实现± 100nm。大间隙对准可选：± 1.5µm 3σ

• 对准台：

精密微米计：手动，电动可选； 契型补偿：内部0.5-40N接触压力

• 曝光：

模式：软或真空接触；分辨率：< 50 nm, 主要与印章的关键尺寸有关；

波长：200 - 240 nm / 240 - 280 nm / 280 - 350 nm / 350 - 450 nm, 滤镜可选；

汞弧灯：350 / 500 / 1000 W。

• 自动对准：可选；
• 处理系统：3料盒台，5料盒台（可选），现场可升级
•  SECS/GEM II: 可选。