SU-8 胶已成为微机电系统（MEMS）制造领域中首选的光刻胶。然而 SU-8 胶最致命的缺点就是去胶困难，为了解决这个难题，德国 Alpha Plasma 推出专业去除 SU-8 胶的微波等离子去胶机。该设备采用氟基气体与 SU-8 胶的化学反应，实现快速去除 SU-8 胶的功能。另外设备还可集成温控系统，去胶过程中对衬底温度的控制保证了高深宽比金属结构的完整性，最终实现高质量 MEMS 器件的制备。