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半导体芯片/电子材料 > 光刻胶
 
纳米压印胶
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纳米压印胶, mr-NIL 6000E, mr-I 9000M, mr-UVCur21

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产品详情

纳米压印胶

详细介绍：

 

类型 光刻胶型号 适用光谱 厚度范围/um 分辨率 适用工艺 可用显影液 可用去胶液
纳米压印胶 mr-NIL 6000E 热固化和UV固化 0.1-1 50nm 可用于纳米图形的制造、刻蚀、多层系统等 　 　
mr-I 9000M 热固化 0.1-1 50nm 　 　
mr-UVCur21 UV固化 0.1-5 50nm 　 　
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