美国UVOCS  UVO₃紫外臭氧清洗机T10x10/OES,T16x16/OES

紫外臭氧清洗，去除无机基 材料（如：石英、硅片、金、镍、 铝、砷化镓，氧化铝等）上的有 机污染物；特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时，紫外清洗非常理想。要获得超洁净的表 面，只需在传统清洗之后，再用 紫外臭氧清洗几分钟就可以。

不锈钢结构箱体

应用说明

• 表面的原子级清洗                                           
•去除有机分子
•紫外光固化、表面化学改性
•聚合物粘接、金属粘结准备
•微流控制作、微米/纳米构型
•表面杀菌、表面氧化
•释放捕获的无机分子
•快速－大多数应用10分钟内可完成
 

臭氧控制系统：
   

 紫外臭氧清洗工作原理

 UVO清洗设备的核心是低压石英汞灯，产生254和185nm范围的紫外线。臭氧和 等离子氧气产生，有机污染物分子在吸收254nm波长紫外线后被激发或分解；激发的 有机污染物可以和等离子氧原子反应形成气体，比如CO₂,等。整个过程在室温发 生，并且只需要1到几分钟完成。

紫外光处理表达方式：

紫外臭氧清洗可以去除？
皮肤油脂，有机硅油和油脂，助焊剂，残留的光刻胶，胶水溶剂，碳等。

怎样说是“超”洁净？
接触角测量方法4-5度。适用AES和ESCA测量细微的峰值。使用蒸汽测试，在冷凝 和蒸发时形成一致的彩虹装的条纹。

应用说明

*注1：白色氧化铝暴露在UV能量下会变黄，这种现象是由于基材吸收UV能量， 而不是一种涂 层。这种氧化铝在

加热情况下会转化为他原来的颜色。
**注2：清洗元件温度的上升取决清洗过程的时间长度。在大多数应用，元件温度可以视为室温。
    

设备技术参数