PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300F Pro ALD
PICOSUN 生产型原子层沉积机 P-300BV Pro ALD

技术参数
 。衬底尺寸和类型 200 mm 晶圆 25 + 2片/批次 (标准间距)
 。150 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距)
 。100 mm晶圆50 + 2片/批次 (标准间距)

工艺温度： 50 - 300 °C
 

基片传送选件：

。 P-300F Pro: 27片晶圆盒对盒式全自动装载（cassette-to-cassette），用PICOPLATFORM™200集群系统实现。
 。P-300BV Pro: 52片晶圆盒对盒式全自动装载，用真空批量load lock实现
 

标准 。 P-300F Pro: SEMI S2 认证
   。P-300BV Pro: SEMI S2 认证（认证中）
 

前驱体 ：

 。液态、固态、气态、臭氧源
 。前驱源余量传感器, 并提供清洗和装源服务
 。6根独立源管线，最多加载8个前驱体源
 

重量： 820 kg
 

尺寸 ：(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm
 

选件： 集群工具, PICOFLOW™ 扩散增强器, N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
 

验收标准： 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺，
 

其他工艺可具体协商：其他工艺、应用具体验收标准如
               - 不均匀性
               - 颗粒物含量
               - 重金属污染
               - 电学性能