Durham Microwriter ML3 小型台式无掩膜光刻系统

小型台式无掩膜光刻系统是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板 的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。

    Microwriter ML 3 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。

产品特点
 

Focus Lock自动对焦功能 

Focus lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，

以保证曝光分辨率。

光学轮廓仪 

Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。

Z向最高精度100 nm，方便快捷。

标记物自动识别

点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。

标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。

别直写前预检查

软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度，

直到设计图形按要求与有结构重合，保证直写准确。

简单的直写软件

MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、

基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。

Clewin 掩模图形设计软件 

•可以读取多种图形设计文件（DXF, CIF, GDSII, 等）
•可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式
•书写范围只由基片尺寸决定

直写分辨率1μm

直写分辨率0.6μm

微电极制备

微结构制备

微流通道制备