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FPS 6100多功能掩膜版光刻机
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使多功能光掩模制造
具有无与伦比的灵活性
FPS6100传递的画面质量和生产效率有所提高，符合当下更为先进的多功能市场细分的要求。
许多应用和生产环境可以设置FPS6100：电子包装、触摸屏、滤色镜、精细的金属膜片、3D模具等等。这意味着你可以充分利用现行产品体系，同时瞄准新的商机。
与之前的FPS5500相比，FPS6100能够提供更高的曝光速度以及更优质的画面质量。如果您的FPS系统是老一代的，您可以将它升级至FPS6100系列，不仅节省成本同时提高经营的能力和质量。
主要优势：
技术指标
|
FPS6100 |
Lvl 80 |
Lvl 60 |
Lvl 40 |
|
曝光速度[mm²/min] |
525 |
1250 |
2600 |
|
最小L/S 溶解（pitch/2） |
0.75 |
1.2 |
2.0 |
|
CD均匀性3σ [nm] |
30 |
40 |
60 |
|
套合3σ[nm] |
70 |
85 |
100 |
|
最大掩膜尺寸 [mm] |
813x813* |
||
|
FPS6100 |
Lvl 25 |
Lvl 20 |
Lvl 15 |
|
曝光速度[mm²/min] |
6000 |
8000 |
12000 |
|
最小L/S 溶解（pitch/2） |
3.5 |
5.0 |
7.0 |
|
CD均匀性3σ [nm] |
80 |
100 |
200 |
|
套合3σ[nm] |
120 |
140 |
160 |
|
最大掩膜尺寸 [mm] |
813x813* |
||
|
FPS6100E |
Lvl 25 |
Lvl 20 |
Lvl 15 |
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曝光速度[mm²/min] |
5000 |
8000 |
12000 |
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最小L/S 溶解（pitch/2） |
6.0 |
8.0 |
12.0 |
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CD均匀性3σ [nm] |
600 |
700 |
900 |
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套合3σ[nm] |
120 |
140 |
160 |
|
最大掩膜尺寸 [mm] |
813x813* |
||
* 掩膜可伸展尺寸到达可选择的1100×1100 和 900×1200
技术指标
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FPS6100 |
Lvl 80 |
Lvl 60 |
Lvl 40 |
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曝光速度[mm²/min] |
525 |
1250 |
2600 |
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最小L/S 溶解（pitch/2） |
0.75 |
1.2 |
2.0 |
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CD均匀性3σ [nm] |
30 |
40 |
60 |
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套合3σ[nm] |
70 |
85 |
100 |
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最大掩膜尺寸 [mm] |
813x813* |
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FPS6100 |
Lvl 25 |
Lvl 20 |
Lvl 15 |
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曝光速度[mm²/min] |
6000 |
8000 |
12000 |
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最小L/S 溶解（pitch/2） |
3.5 |
5.0 |
7.0 |
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CD均匀性3σ [nm] |
80 |
100 |
200 |
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套合3σ[nm] |
120 |
140 |
160 |
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最大掩膜尺寸 [mm] |
813x813* |
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FPS6100E |
Lvl 25 |
Lvl 20 |
Lvl 15 |
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曝光速度[mm²/min] |
5000 |
8000 |
12000 |
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最小L/S 溶解（pitch/2） |
6.0 |
8.0 |
12.0 |
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CD均匀性3σ [nm] |
600 |
700 |
900 |
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套合3σ[nm] |
120 |
140 |
160 |
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最大掩膜尺寸 [mm] |
813x813* |
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* 掩膜可伸展尺寸到达可选择的1100×1100 和 900×1200
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