产品名称：SWC-3000兆声晶圆清洗机

 

产品特点：SWC-3000兆声晶圆清洗机：Nano-Master兆声单晶圆及掩模版清洗机提供高可重复性、高均匀性及Z先进的兆声清洗。它可以在一个工艺步骤中包含了专利的无损兆声清洗、化学试剂清洗、刷子清洗以及干燥功能。

SWC-3000兆声晶圆清洗机的详细资料：

应用：

· 带图案或不带图案的掩模版和晶圆片

· Ge, GaAs以及InP晶圆片清洗

· CMP处理后的晶圆片清洗

· 晶圆框架上的切粒芯片清洗

· 等离子刻蚀或光刻胶剥离后的清洗

· 带保护膜的分划版清洗

· 掩模版空白部位或接触部位清洗

· X射线及极紫外掩模版清洗

· 光学镜头清洗

· ITO涂覆的显示面板清洗

· 兆声辅助的剥离工艺

特点：

· 台式系统

· 无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干

· 支持12"直径的圆片或9"x9"方片

· 微处理机自动控制

· IR红外灯

选配项：

· 掩模版或晶圆片夹具

· PVA软毛刷清洗

· 化学试剂清洗(CDU)

· 氮气离子发生器